特点：
附加风格的EB光刻用图形生成装置⇒各种类型安装可能。
根据市面上的CAD的采用马上就可以浮起点子
为了不使用电子线绘图专用机的专门知识/技能/熟练的技术，无论谁都可以在轻松的模式形成。
区域广泛（最大5毫米）的批量曝光
描画方式 | 光栅扫描系统/方块扫描 |
扫描速度 （时间）剂量 | 0.5～10,000μsec/ピクセル
(設定単位：0.1μsec/ピクセル) |
绘图象素数 | ラスタースキャン方式 | ブロックスキャン方式 |
1,000×1,000
2,000×2,000
4,000×4,000
5,000×5,000
10,000×10,000 | 1,000×1,000 |
绘图字段 | 50μm□/100μm□/
200μm□/500μm□ | 2,500μm□
1ブロック＝2.5μm□
(SEM仕様による) |